交流电源紫外线灯13KW电源

扫描步进投影曝光（Scanning-Stepping Project Printing）。90年代末至今，用于≤0.18μm工艺。采用6英寸的掩膜板按照4：1的比例曝光，曝光区域（Exposure Field）26×33mm。优点：增大了每次曝光的视场；提供硅片表面不平整的补偿；提高整个硅片的尺寸均匀性。但是，同时因为需要反向运动，增加了机械系统的精度要求。d. 高精度双面：主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和生产。高精度特制的翻版机构、双视场CCD显微显示系统、多点光源曝光头、真空管路系统、气路系统、直联式无油真空泵、防震工作台等组成。适用于φ100mm以下，厚度5mm以下的各种基片的对准曝光。在黑暗中寻找光明，超高压汞灯、金属卤素灯，紫外线灯为你指明方向。交流电源紫外线灯13KW电源

紫外线椭圆形反射镜适合用来简化系统设计和安装。椭圆形反射镜可使用两个焦点来消除组件内采用多个聚焦元件的需要。当光源放在焦点时，光源将会重新聚焦到第二焦点。本品提供两种反射镜镀膜供您选择。冷反射镜镀膜可反射可紫外线光，同时可透射近红外光，使其成为冷凝式应用的理想选择。 精密椭圆形反射镜经过精密抛光，可生成准确的非球面。这些反射镜提供改进的热稳性和强大的聚焦效率，以及商用的压膜反射镜。普遍使用的应用包括用于LCD生产的曝光机设备。185nm紫外线灯8GLZAL尼康NSR-2205i11D光刻机，解析度 ≤350nm 曝光功率 687.439mW 曝光均匀度 1.258 ％ 晶圆尺寸 8英寸 吞吐量 63wph 。

工件台为光刻机的一个关键，由掩模样片整体运动台（XY）、掩模样片相对运动台（XY）、转动台、样片调平机构、样片调焦机构、承片台、掩模夹、抽拉掩模台组成。其中，样片调平机构包括球座和半球。调平过程中首先对球座和半球通上压力空气，再通过调焦手轮，使球座、半球、样片向上运动，使样片与掩模相靠而找平样片，然后对二位三通电磁阀将球座和半球切换为真空进行锁紧而保持调平状态。样片调焦机构由调焦手轮、杠杆机构和上升直线导轨等组成，调平上升过程初步调焦，调平完成锁紧球气浮后，样片和掩模之间会产生一定的间隙，因此必须进行微调焦。另一方面，调平完成进行对准，必须分离一定的对准间隙，也需要进行微调焦。抽拉掩模台主要用于快速上下片，由燕尾导轨、定位挡块和锁紧手轮组成。承片台和掩模夹是根据不同的样片和掩模尺寸而进行设计的。

ORC制作所生产超高压汞灯，英文：super high pressure mercury lamp，点灯时，汞蒸气压力为100～10000KPa，主要发射波长在365nm，395nm，405nm，436nm，累计光量可达数千kJ/mol(52.3kcal/mol)的汞蒸气弧光灯。短弧超高压汞灯是一种装有一对钍钨电极的球形石英玻壳放电灯。玻壳内充少量启动氩气和定量的汞,极间距离0.2～8mm,功率1,000～350,000W,工作时形成“电极稳定型”电弧, 一般采用垂直点灯,强制风冷。短弧超高压汞灯的有效寿命为750～3000h, 。 短弧超高压汞灯是辐射极强的长波紫外光源应用于集成电路光刻制版工艺。i线步进式光刻机NSR-2005i10用于半导体器件制造。使用ORC制作所高压汞灯，功率2KW，型号：NLi-2001AL。

UV/可視光硬化型接着剤を硬化させるように設定されたUVファイバー装置です。メンテナンス時のランプ交換が非常に簡単です。自動機組み込み用、または手作業用に対応可能です。0～100%まで自由自在な光量調整ができます。全世界フリー電源です。瞬時停電対応プログラム搭載です。UV(紫外線照射)ファイバー装置用ランプです。用途UV/VIS(紫外線/可視光硬化)接着剤の硬化に。UVファイバー HM88、HM66用メンテンスランプ。 仕様放射波長(250nm帯増強タイプ)240～400nm , 質量(g):28, 入力電圧(V):AC100～240、単相47Hz～63Hz 寿命約3000時間(365mm)表面硬化重視の場合はこの限りでありません。 位置ライトガイド接続口/操作パネル面、ランプ交換口/背面 主なワークパーツ我们的紫外线灯符合国际标准，通过了CE、RoHS等认证，保证产品质量和安全性.NLi-2510A紫外线灯代理商

紫外线消毒标准，超高压汞灯、金属卤素灯，工业用灯选择。交流电源紫外线灯13KW电源

光刻机（lithography）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。生产集成电路的简要步骤：利用模版去除晶圆表面的保护膜。将晶圆浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。其中曝光机就是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。一片晶圆可以制作数十个集成电路，根据模版曝光机分为两种：模版和晶圆大小一样，模版不动。模版和集成电路大小一样，模版随曝光机聚焦部分移动。其中模版随曝光机移动的方式，模版相对曝光机中心位置不变，始终利用聚焦镜头中心部分能得到更高的精度。成为的主流。交流电源紫外线灯13KW电源